脱气膜介绍 XH-T系列脱气膜是控制液体脱气、供气的中空纤维膜组件。具有致密表皮层的独特中空纤维不透过液体，只透过气体，适合用于液体的脱气、供气。 
主要用途 · 超纯水的脱氧、脱二氧化碳 · 锅炉供水的脱氧 · 超声波清洗机用水的除泡处理 型号一览表 请根据不同的处理流量、运行压力等使用条件、尺寸等选择适合的产品。 型 号处理流量（L/h）膜面积（m2）耐压（MPa）XH-T40401000约150.10 XH-T60402500约350.10
优良的耐久性
XH-T系列脱气膜,具有致密表皮层与内部的支撑层完全融 为一体。并非复合而成的结构。这种一体化结构，不仅 是性能优越，耐久性也很好。通过采用具有致密表皮层 的中空纤维脱气膜，可以将凝结水的产生控制在较低水 平。  脱气膜不同与过滤膜 过滤膜过滤超过一定大小的颗粒，水直接透过膜的微孔。脱气膜只透过气体，而不透过液体。 
特征性能参数 ☆、膜外径：350~360μm
☆、膜内径：250~260μm
☆、膜壁厚：50μm
☆、微孔孔径：0.01~0.2μm
☆、透气率：>7.0×10-2（cm3/cm2 ·S· cmHg）
☆、孔隙率：45~65%
☆、水通量：1T/H/支(0.10Mpa/25℃)； 2.5T/H/支(0.10Mpa/25℃)； ☆、单支面积：15m2/35m2 ☆、型号：XH-T4040/ / XH-T6020 ☆、脱除率：≥85%（单级）
☆、工作运行跨压≥0.1Mpa
☆、膜材料：采用膜丝材料
☆、对应大规模化的超纯水供给设备
☆、由于不使用氮气，可实现低成本、高效率的运转（进行脱气处理需要使用真空泵作为气体移动的动力源。) 制造方法：不使用一切溶剂和其它添加物质 运行条件： 单级膜组件：脱气率：85% 两级膜组件串联，脱气率：95% ·源水要去除游离氯、臭氧等氧化性强于脱气膜组件的物质。 ·对于城市自来水，在水温<30摄氏度时，游离氯<1ppm。 膜组件放置位子与方向性 垂直放置： ·水必须下入上出，如果串联，前一个膜组件的出水必须从下一个膜组件的下部进入。 ·位于下面的出气口必须高于水环真空泵的入口，这样可使积水流至水环式真空泵。如图 
水平放置： ·仅在真空模式，气口须高真空泵的入口，并将可能的积水导向下方。 如图 
·气端口应与其它每一个成 180°。出气端口必须高于水环泵的入口，这样可使积水流至水环式真空泵。 给水要求 建议给水需经5微米预过滤。过滤精度取决于水的组成，必要时须做调整。如果给水中有可吸附或凝聚的粒子，建议采用更严格的过滤精度。 ·为防止细菌滋长，可在停机期间采用充入杀菌剂（杀菌剂源水要去除游离氯、臭氧等氧化性强于脱气膜组件的物质），监视杀菌剂的液位以保证效果。 脱气工艺流程 
脱气膜技术是一种新型的气/液膜分离工艺过程，通过抽真空、抽真空+N2等方法可使水中的O2脱除率大于90%/96%，通过吹气、抽气+吹气等的方法可使水中的CO2脱除率大于85%/98%，用户还可通过脱气膜串联等方法进一步提高脱气效果。 （1）脱液体中二氧化碳
采用反渗透RO和电脱盐（EDI）或连续电脱盐(CDI) 的系统用水必须降低水中的二氧化碳(CO2)含量。高电导率的电脱盐（EDI）或连续电脱盐(CDI) 进水将会降低其出水的电阻率值。水中溶解的CO2是造成水中高电导率的主要原因。脱气膜提供了一种清洁，无维护保养和无需任何化学添加调整PH值的从水中去除二氧化碳CO2的方法, 去除率可达到99.9%。如果在EDI 或CDI 前去除二氧化碳，那么，就会可以让电脱盐（EDI）或连续电脱盐(CDI)产出更高水质的产水，可使原来一级反渗透+EDI的出水电阻率从原来的1.0兆提高到18兆。当进水中溶解的二氧化碳去除后，EDI/CDI对硅和硼的去除率也会随之提高，从而使一级反渗透+脱气膜的出水完全取代以往二级反渗透出水作为电脱盐（EDI）的进水成为可能。 （2）脱液体中氧气
脱气膜广泛地用于从水中除氧和其他液体除氧。氧气O2对很多工艺过程有负面影响；氧气会腐蚀和氧化材料。在电力和其他工业领域，如果没有进行脱气， 管道，锅炉和设备很容易被腐蚀。脱气膜提供了一种无需化学品添加和大型脱气塔的易于操作，模块化的水中脱氧方法。还提供只须一个步骤就可达到同时去除氧气O2和二氧化碳CO2 ， 和氮气控制的好处。在半导体领域的灵活应用在半导体和薄膜平板工业领域，高含氧量会导致低良品率。在微电子领域，脱气膜能满足<1ppb 的溶解氧指标并提供性能担保。完全提供一种取代脱气塔的完美方案。 常见的应用范围 -去除溶体中的氧气 ( 小于 1 ppb)
-去除溶体中的二氧化碳 ( 小于 1 ppm)
-去除溶体中的氮气 -控制气体湿度
-去除液体中的微泡(如: 光阻剂﹑色墨﹑乳剂)
-向溶体中的添加氢气以控制溶氢量
-向溶体中的添加氮气以控制溶氮量
-向溶体中的添加二氧化碳气体 | 
